Amplificador Optico Semiconducor
Amplificador Optico Semiconducor
Introducción
2.Marco Teórico
2.1 Fibra Óptica
Amplificador Óptico
La fibra óptica tiene dos limitantes principales la atenuación y la dispersión. La atenuación
lleva a la pérdida de potencia de la señal fotónica y esto limita en gran medida la distancia de
transmisión que puede lograr la señal. La dispersión causa el ensanchamiento del pulso óptico,
con esto provoca la interferencia inter-símbolo y así se incrementa la tasa de error de bit (Bit
Error Ratio, BER por sus siglas en inglés) y esto en esencia limita el ancho de banda de la fibra,
además de que la fibra como todo medio es un filtro pasa bajos por lo cual la señal se deforma
en el recorrido.
observando estas características de la fibra óptica se hace más entendible la selección de las
ventanas en la región de 1330nm y la región de 1550nm, ya que estás comprenden una
relación de atenuación y dispersión que permiten lograr la transmisión de la señal de un punto
a otro más fácilmente por la fibra, la ventana de 820nm sigue siendo usada en enlaces cortos y
una tasa de bit moderada y por ello en esta longitud de onda no se necesita usualmente el
amplificador óptico
Al ser el amplificador óptico una parte fundamental, se han creado dos dispositivos con
diferente tecnología, el SOA y el OFA en este caso hablando del amplidficador óptico
semicondictor podemos decir que el SOA tiene un atractivo interés para ser utilizado como el
amplificador por preferencia y es que aparte de poder amplificar en todo el espectro de las
comunicaciones ópticas en anchos de banda de 30nm aproximadamente y ganancias de 25dB
también tiene aplicaciones funcionales en la redes de comunicación ópticas y puede ser usado
como dispositivo de procesamiento de señal en el dominio óptico, esto hace que el SOA tenga
unas características de amplificación similares a la de los EDFA y permita la regeneración de los
pulsos de información
3.1 Breve Historia del Amplificador Óptico de Semiconductor
Los primeros estudios sobre SOA se realizaron en la década de 1960 con la invención del láser
semiconductor. Este dispositivo fue construido con juntas homogéneas de arseniuro de galio ()
y tuvo que funcionar a bajas temperaturas. Con la construcción de dispositivos de doble
heteroestructura, se generó interés e investigación en el uso de SOA en sistemas de
comunicación óptica. En 1970 y 1980, SOA comenzó a considerarse como un área de
investigación y se hicieron importantes avances en el diseño del dispositivo físico y su
modelado. Los primeros estudios se centraron en SOA que operaba en la región de 820 nm
porque era la región utilizada en ese momento y no había láseres ni receptores ópticos que
permitieran mostrar los sistemas de comunicación en la segunda y tercera ventana, aun así en
los estudios de SOA que comenzaron en finales de los 80 que fueron diseñados para operar en
las regiones de 1300nm y 1550nm
Existen dos tipos de SOAs, Amplificador óptico de semiconductor de caras reflectantes (Fabry
Perot SOA, FP-SOA por sus siglas en inglés) y el amplificador óptico de semiconductor de onda
viajante (Travelling wave SOA, TW-SOA por sus siglas en inglés).
La gran diferencia entre estos dos amplificadores es que el FP-SOA tiene reflexiones en sus
caras que son bastante significativas y variantes, el TW-SOA no tiene este problema, la
reflexión es despreciable, las coberturas anti-reflexión pueden ser usados para fabricar SOAs
en los cuales la reflectividad de sus caras es menor a Además el TW-SOA no es tan sensible a
las fluctuaciones de corriente de polarización, temperatura y polarización de la señal como lo
es el FP-SOA
Principios de amplificación
En un SOA los electrones son inyectados por una fuente de corriente externa lo cual lleva al
SOA a una región activa. Al energizar el SOA los electrones pasan a ocupar la BC ( banda de
conducción ) que tiene un nivel de energía y deja una serie de huecos en la BV (banda de
valencia ), es decir átomos sin electrones en el orbital de valencia. En un semiconductor son
posibles tres mecanismos de radiación. La absorción estimulada, la emisión estimulada y la
emisión espontánea
Modelo atómico simplificado: (a) Los electrones se encuentran girando alrededor del núcleo en órbitas
discretas; (b) Diagrama de niveles discretos de energía para un átomo
La absorción estimulada ocurre cuando un fotón que incide en el semiconductor provoca una
recombinación estimulada al mover un electrón del BV al BC, y este proceso hace que el fotón
se elimine. Este fenómeno no se puede eliminar y se considera una pérdida.
La emisión estimulada sucede cuando un fotón que incide en el
semiconductor provoca una recombinación estimulada llevando un
electrón de la banda de conducción a la banda de valencia , Este
proceso crea un nuevo fotón que tiene la misma frecuencia y fase
que el fotón que inicia el proceso, y el fotón que inicia el proceso no
se elimina. Este es el proceso por el cual se puede realizar la
amplificación ya que la señal fotónica puede causar este efecto en el
semiconductor.
La emisión espontánea es un proceso de pérdida y el ruido generado
por el propio dispositivo. En este proceso, los electrones excitados
que se encuentran en el BC pierden energía y alcanzan el BV,
liberando una frecuencia aleatoria y un fotón de fase para estimular
otros electrones y generar más fotones aleatorios de fase y
frecuencia. Es probable que este proceso se modele en unidades de
tiempo y, por lo tanto, se tenga en cuenta su impacto en la
amplificación de la señal.
3.3.1 Estructura básica del SOA
Las estructuras de construcción SOA buscan que el dispositivo tenga varias características,
tales como: alta ganancia, gran ancho de banda, baja sensibilidad a la polarización, niveles de
ruido cercanos a los teóricos, operación correcta para cualquier tipo de modulación,
amplificación multicanal sin perturbación entre canales y disminución -linealidad. Además de
acentuar o disminuir algunas de estas características debido a aplicaciones particulares que
usan SOA
Este dispositivo tiene una región activa sin dopaje (Intrínseca) y está entre dos
regiones de semiconductor dopado (Extrínsecos), uno tipo N y otro tipo P, teniendo así una
pila de hetero-junturas fijas. Mediante esto se crean dos regiones, una activa y otra de
revestimiento, la región de revestimiento tiene una diferencia de energía de GAP entre la BV y
la BC más grande y tiene un índice de refracción ligeramente menor respecto a la región activa